시험·신뢰성·품질

코드 디스크 핵심 파라미터의 측정 불확도: 선폭, 광학 밀도, 편심

코드 디스크 핵심 파라미터의 측정 불확도: 선폭, 광학 밀도, 편심

선폭, 광학 밀도, 편심은 코드 디스크 검사의 세 가지 핵심 파라미터다. 이 글은 GUM 방법에 따라 각각의 주요 불확도 요인을 분해하고, 에지 임계값 편차, 미광 배경, 일차 고조파 피팅에 대한 정량식을 제시하며, 계산 예로 불확도가 공차를 어떻게 잠식하는지 보여 준다.

선폭 25 μm ±1 μm인 코드 디스크를 비전 측정기로 쟀더니 25.6 μm가 나왔다. 합격인가, 불합격인가? 이 장비가 에지 알고리즘만 바꿔도 25.0 μm나 26.2 μm를 읽는다면 ‘25.6’ 자체에는 정보가 별로 없다. 검사 데이터를 판정에 쓸 수 있으려면 먼저 측정 결과의 불확도가 얼마이고 그것이 공차의 얼마를 차지하는지 답해야 한다.

선폭 측정에서 에지 판정 임계값을 30%에서 70%로 바꾸면 측정 선폭이 약 ±0.63 μm 이동한다(블러 σ = 0.6 μm 모델 계산)
그림 1 – 선폭 측정에서 에지 판정 임계값을 30%에서 70%로 바꾸면 측정 선폭이 약 ±0.63 μm 이동한다(블러 σ = 0.6 μm 모델 계산)

평가 틀: GUM의 네 단계

측정 불확도 표현 지침(GUM)의 사고방식에 따라 평가는 네 단계로 진행한다.

  1. 측정 모델 y = f(x₁, x₂, …, x_n)을 쓰고, 모든 영향량을 입력으로 나열한다.
  2. 각 입력의 표준 불확도 u_i를 평가한다. 반복 측정의 통계적 방법으로 얻은 것은 A형, 인증서·핸드북·경험으로 구간을 주고 분포를 가정해 얻은 것은 B형이다. 오차가 ±a 안에 균일 분포한다는 것만 알 때는 u = a/√3이다.
  3. 합성: u_c = √(Σ c_i²·u_i²). c_i는 감도 계수(∂f/∂x_i)이며, 입력 간 상관이 있으면 공분산 항도 더한다.
  4. 확장: U = k·u_c. 보통 k = 2를 취하며, 약 95%의 포함 확률에 해당한다.

핵심은 1단계다. 모델이 영향량 하나를 빠뜨리면 뒤에서 아무리 세밀하게 계산해도 과소평가가 된다.

선폭: 에지 판정이 가장 큰 항목

영상법 선폭 측정은 본질적으로 계조 프로파일에서 두 에지를 찾는 일이다. 결상계에는 블러가 있어 크롬선의 날카로운 에지가 영상에서는 경사로 바뀐다. 블러를 표준편차 σ의 가우스 분포로 근사하고 선폭이 σ보다 훨씬 클 때, 정규화 임계값 t로 에지를 판정하면 측정 선폭은 다음과 같다.

w_m = w + 2σ·z(t)

여기서 w는 실제 선폭, z(t)는 표준정규분포의 t 분위수다(밝은 배경의 어두운 선, 임계값보다 낮은 부분을 선으로 판정). t = 50%이면 z = 0으로 편차가 없다. σ = 0.6 μm일 때 t를 40%로 하면 −0.30 μm, 70%로 하면 +0.63 μm 치우친다(그림 1).

여기서 두 가지를 알 수 있다. 첫째, 장비나 소프트웨어마다 임계값 약속이 다르면 데이터를 비교할 수 없다. 둘째, 50%로 고정해도 ‘광학적 에지’가 도면이 정의한 ‘기하학적 에지’와 같다는 보장은 없다. 크롬층 측벽 경사, 조명의 간섭성, 디포커스가 모두 프로파일을 비대칭으로 만든다. 이 편차는 선폭 표준 시편으로 교정하기 전까지는 구간으로만 추정할 수 있다.

기타 요인:

  • 픽셀 환산 교정: 표준 스케일로 교정한다. 상대 불확도 0.1%는 25 μm 선폭에 0.025 μm만 기여하지만, 지름이나 피치 같은 긴 치수에서는 같은 상대량이 주요 항이 된다.
  • 온도: 보로실리케이트 유리 위 25 μm 선폭은 20 ℃에서 2 K 벗어나도 약 0.0002 μm 변해 무시할 수 있다. 반면 외경 40 mm는 약 0.26 μm 변하므로 외경을 잴 때는 반드시 반영해야 한다.
  • 반복 정밀도: 같은 위치를 10회 반복 측정해 단일 측정의 표준편차를 A형 성분으로 삼는다.

그림 2는 계산 예 버짓(가정 데이터)이다. 개선 전에는 에지 판정을 ±0.30 μm 직사각형 분포로 보아 u_c ≈ 0.20 μm, U ≈ 0.40 μm이다. 선폭 표준 시편으로 임계값 편차를 ±0.10 μm까지 교정하고 4회 평균을 취하면 U ≈ 0.18 μm가 된다.

선폭 측정 불확도 버짓 계산 예: 에지 판정 항이 지배적이며, 임계값 교정과 다회 평균 후 U가 0.40 μm에서 0.18 μm로 줄어든다
그림 2 – 선폭 측정 불확도 버짓 계산 예: 에지 판정 항이 지배적이며, 임계값 교정과 다회 평균 후 U가 0.40 μm에서 0.18 μm로 줄어든다

광학 밀도: 배경이 상한을 정한다

OD = −lg(I_t / I₀). I_t는 투과광, I₀는 기준광이다. 랜덤 노이즈의 전파는 다음과 같다.

u(OD) = 0.434·√[(u(I_t)/I_t)² + (u(I₀)/I₀)²]

투과광 I_t의 상대 노이즈가 1%이고 기준광 노이즈를 무시할 수 있으면 OD의 불확도는 약 0.004에 불과해 크지 않다. 진짜 문제는 계통적 배경이다. 미광, 검출기 암전류, 완전히 차단되지 않은 우회광 등이다. 배경이 입사광의 T_s에 해당한다고 하면 측정값은 OD_m = −lg(T + T_s)가 된다. T_s = 0.01%이면 OD 3은 2.96으로 읽히고, OD 4는 약 3.70으로밖에 읽히지 않는다(그림 3). 따라서 높은 OD를 측정할 때는 먼저 ‘완전 차광’ 상태의 판독값을 재서 빼야 하며, 잔류 배경은 목표 투과율의 1/10보다 낮아야 한다. 또한 OD는 파장에 따라 달라지므로 측정 파장은 리드헤드 광원의 파장에 가까워야 한다.

미광과 암전류 배경 때문에 높은 광학 밀도 판독값이 포화로 향한다. 배경이 클수록 포화가 빨리 온다
그림 3 – 미광과 암전류 배경 때문에 높은 광학 밀도 판독값이 포화로 향한다. 배경이 클수록 포화가 빨리 온다

편심: 두 일차 고조파 피팅의 차

코드 디스크의 편심은 일반적으로 패턴 중심(센터링 링)이 장착 기준(내경)에서 벗어난 정도를 말한다. 흔한 측정법은 디스크를 정밀 에어베어링 회전 테이블에 올리고, 카메라로 한 바퀴에 등간격으로 N점을 취득해 센터링 링과 내경 에지의 반경 방향 위치를 각각 구한 뒤 다음 식으로 피팅하는 것이다.

r(θ) = r₀ + a·cosθ + b·sinθ

두 (a, b) 쌍의 차를 구해 크기를 취하면 내경에 대한 패턴의 편심 e가 되며, 디스크를 회전 테이블에 얼마나 치우치게 올렸는지와는 무관하다. 고차 고조파는 진원도에 속하므로 편심에 넣지 않는다. 소형 디스크는 비전 측정기에서 두 원을 직접 피팅해 중심 거리를 구할 수도 있다.

등간격 샘플링에서 단일 점 노이즈가 σ일 때, 한 번의 피팅에서 얻는 e 성분의 불확도는 약 σ·√(2/N)이고, 두 피팅의 차를 취하면 다시 √2배가 된다. σ = 0.3 μm, N = 36이면 약 0.1 μm이다. 이 밖에 회전 테이블의 반경 방향 운동 오차, 내경 에지의 버와 진원도 불량, 픽셀 환산도 반영해야 한다. r = 20 mm에서 0.1 μm의 편심 불확도는 약 1″의 각도 오차에 해당한다.

측정 능력: 불확도가 공차의 얼마를 차지하는가

측정 능력을 나타내는 흔한 척도는 U와 공차의 절반의 비다. 경험적으로 1/3 이하가 일반적 요구이며, 요구가 높은 경우 1/5, 심지어 1/10을 쓴다.

앞의 선폭 예에서 공차는 ±1 μm이다. 개선 전 U = 0.40 μm, 비율 40%로 측정 시스템이 부족하고, 개선 후 U = 0.18 μm, 비율 18%이다.

불확도는 판정할 수 있는 범위도 직접 줄인다. ISO 14253-1의 사고방식에 따르면 공급자가 합격을 입증하려면 측정값이 양 끝을 각각 U만큼 좁힌 구간 안에 들어와야 한다. 개선 전 합격 판정 구간은 ±0.60 μm만 남고, 개선 후에는 ±0.82 μm이다. 즉 측정 불확도를 0.40에서 0.18 μm로 낮추는 것은 공정에 한쪽당 약 0.22 μm의 여유를 더 주는 것과 같다.

실무 포인트

  • 선폭 측정의 임계값 약속(50% 또는 기타)과 알고리즘은 검사 규정에 명시하고 공급자와 고객이 일치시켜야 한다. 그렇지 않으면 차이가 0.5 μm 이상에 이를 수 있다(σ = 0.6 μm일 때 30%~70% 범위는 1.26 μm).
  • 인증된 선폭 표준 시편으로 ‘광학적 에지 대 기하학적 에지’ 편차를 정기적으로 교정한다. 이 항목이 보통 선폭 버짓의 주요 항이다.
  • 상대 오차는 길이에 비례해 커진다. 같은 0.1%의 스케일 또는 픽셀 환산 오차가 25 μm 선폭에서는 0.025 μm지만 40 mm 외경에서는 40 μm이다. 긴 치수를 잴 때는 교정과 온도 보정이 핵심이다.
  • OD는 먼저 배경을 재서 뺀다. 목표 OD가 높을수록 미광 요구가 엄격해지며, OD 4는 배경이 10⁻⁵ 수준보다 낮아야 한다.
  • 편심은 내경을 기준으로 한다. 센터링 링과 내경을 함께 피팅해 둘의 일차 고조파 차를 쓰고, 한 바퀴에 36점 이상을 취하며, 표준기로 회전 테이블을 정기적으로 점검한다.
  • 판정 규칙을 정하기 전에 측정 능력 비를 먼저 계산한다. 비가 1/3을 넘으면 공정을 조이기보다 측정을 먼저 개선하는 편이 낫다.

정리

코드 디스크 검사 데이터의 가치는 그 불확도에 달려 있다. 선폭의 주요 요인은 에지 판정, OD의 주요 요인은 배경, 편심의 주요 요인은 축계와 피팅 노이즈다. 이 요인들을 정량화하고 교정해 공차 절반의 1/3 이내로 관리해야 검사 결론이 공급자와 고객 양측의 재확인을 견딜 수 있다.


중국어 원문 기사 번역 (0191). ENC7 코드 디스크 제조사 (문의) · 기술 자료 · https://enc7.com

© Langfang Jingzheng Optoelectronic Technology Co., Ltd. 무단 전재를 금합니다. 이 글은 AI의 도움을 받아 작성되었습니다.

Have a drawing? Get an engineer's review.

Send your outer diameter, bore, line count or bit count, substrate and readhead wavelength. Our engineers check manufacturability and reply with a quotation and sample lead time.

WhatsApp